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干研磨濕研磨拋光的基本原理
干研磨濕研磨拋光的基本原理
干研磨，主要是嵌入研磨平板表面的砂粒起切削作用。當(dāng)零件在研磨壓力的作用下，在嵌有砂粒的研磨平板上相對(duì)滑動(dòng)時(shí)，砂粒對(duì)被研磨表面的高點(diǎn)產(chǎn)生壓縮作用，由于內(nèi)應(yīng)力的增大而產(chǎn)生彈性變形。當(dāng)應(yīng)力強(qiáng)過屈服點(diǎn)后，便進(jìn)入塑性變形，晶粒和晶粒之間產(chǎn)生滑移，隨著變形的增大，到后來失去聯(lián)系而破裂，這便是所謂的研屑。研磨輔料的存在，改&善了切削條件，促進(jìn)了研磨質(zhì)量和效率的提高。當(dāng)然，在切削作用的同時(shí)，還存在著其它一些輔助作用。如氧化膜的形成和去除；砂粒擠壓產(chǎn)生的塑性變形作用；摩擦和切削所起的熱熔作用，這些作用隨著磨料粒度的細(xì)化而增強(qiáng)。
濕研磨，由于不間斷的添加研磨劑，不但有新砂粒參加研削，而且砂粒的各個(gè)微刃變換切削，使各個(gè)鋒刃都發(fā)揮了作用，同時(shí)冷卻潤滑條件良好。隨著研磨劑中活化輔料的增加，化學(xué)作用和電化學(xué)作用也隨之增強(qiáng)。這是使之成為效率較高研磨方法的主要原因。
拋光是一個(gè)_復(fù)雜的加工過程。研磨劑中品種繁多的活化物質(zhì)大量增加，化學(xué)作用_活躍頻繁，磨料只起到破壞氧化膜的作用。同時(shí)，某些磨料的本身便起著化學(xué)作用。如氧化鉻中的游離硫磺蒸汽與金屬表面起化學(xué)作用，形成了一層很薄的強(qiáng)度很低的硫化膜，它對(duì)硬脂酸和氧化鉻起吸附作用。當(dāng)零件與研具相對(duì)滑動(dòng)時(shí)，吸附在零件表面的氧化鉻將高點(diǎn)的硫化膜破壞，重新露出新鮮的金屬，復(fù)而又形成硫化膜，便這樣反復(fù)不斷的對(duì)零件的波峰進(jìn)行光整加工。
由于研具用極軟的材料制成，砂粒在拋光過程中，往往存在于軟基體之中，因而在一&定范圍內(nèi)，磨料的粒度對(duì)拋光效果影響不是很明顯。 研磨平板 target="_blank">http://www.lkc8.cn
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